TUNAP News
Informativa tecnica: formazione di depositi nei circuiti di alimentazione a gas liquido
27. Gennaio 2009, 14:43
La presente informativa si propone di fornire risposte alle domande che ci sono pervenute sul tema „formazione di depositi nei sistemi di alimentazione a gas liquido“:
Dove possono formarsi dei depositi nei sistemi di alimentazione a gas liquido?
I depositi possono accumularsi in tutti i componenti compresi tra il vaporizzatore del gas e la camera di combustione. Essi sono stati riscontrati nel vaporizzatore, nei filtri del gas, nei condotti e sugli iniettori.
Che tipo di depositi si rinvengono nei sistemi di alimentazione a gas liquido?
Abbiamo analizzato una grande quantità di campioni prelevati dai sistemi di alimentazione a GPL. Le componenti più frequenti riscontrate nei depositi sono alcani con un numero di atomi di carbonio superiore a 18 (noti anche come paraffine), alcheni (noti anche come olefine), estere derivante da plastificanti nonchè prodotti di ossidazione a catena lunga. In singoli casi sono stati rilevati anche acidi organici, alcoli a lunga catena e solidi inorganici. Questi risultati sono stati suffragati anche da altre indagini condotte presso laboratori esterni.
L‘additivo TUNAP può contribuire a causare la formazione di depositi?
No. Affinché possa agire efficacemente sulle valvole, il principio attivo deve poter attraversare tutto l‘impianto, dal vaporizzatore alla camera di combustione. L‘additivo viene quindi trasportato insieme al flusso di gas. Come si è potuto documentare in molti esperimenti, in condizioni di normale utilizzo ciò avviene senza che si formino residui di alcun genere. Al fine di raggiungere una corretta miscelazione con il gas liquido, la sostanza attiva viene sciolta in idrocarburi assimilabili al gas liquido medesimo.
Sin dall‘inizio dell‘impiego del gas liquido come carburante, la complessità delle componenti chimiche sciolte nel gas liquido ha per effetto la formazione di legami di idrocarburi a lunga catena (> C18), che si sedimentano nel vaporizzatore e negli elementi successivi sottoforma di depositi oleosi, a volte resinificati. Negli impianti a gas liquido di più antica concezione erano pertanto previsti dei dispositivi tecnici, in grado di rimuovere, ad intervalli, questi residui.
In determinate circostanze, ad es. in presenza di depositi già consistenti, di rifornimento con gas „impuro“, in condizioni di forte sovradosaggio o di carenze nell‘installazione dell‘impianto a gas, l‘additivo non viene più assorbito dal circuito in modo ottimale e può essere trattenuto nei depositi già esistenti. E‘ possibile documentare in modo analitico-quantitativo la percentuale di additivo TUNAP rispetto alla quantità di accumuli totale; poiché finora tale percentuale ha sempre costituito solo una piccola parte del dato complessivo.
L‘additivo TUNAP contiene paraffine o può favorirne la formazione?
L‘additivo TUNAP non contiene paraffine. Non ci sono fenomeni ad es. di catalisi o reazioni chimiche, per le quali il nostro additivo possa contribuire alla formazione di paraffine. Paraffine ed olefine provengono al 100% dal gas o da altre fonti esterne.
L‘additivo TUNAP contiene acidi fumarici?
No, l‘additivo non contiene acidi fumarici e non contribuisce alla loro formazione. Gli acidi fumarici provengono al 100% dal gas o da altre fonti esterne.
L‘additivo TUNAP può „trascinare con sé“ residui dal serbatoio“?
No, l‘additivo non ha effetto tensioattivo (azione pulente) nel gas liquido. L‘additivo nelle quantità suggerite non è in grado di emulsionare e trascinare con sé accumuli presenti nel serbatoio o nelle condotte del gas liquido.
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